銅/鎳/鉻電鍍

210酸性光亮銅工藝

  • 分類(lèi):銅/鎳/鉻電鍍

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210酸性光亮銅工藝
產(chǎn)品介紹

一、?工藝特點(diǎn):

1、快速出光,走位效果好;

2、鍍液穩定,容易操作控制;

3、鍍層柔韌性好,不易產(chǎn)生針孔或麻點(diǎn),具有良好的耐蝕性能;

4、適用于各種工件的電鍍,特別在小五金和塑料電鍍上有突出表現。

二、鍍液組成及操作條件:

鍍液組成及工藝條件

適用范圍

標準(開(kāi)缸)

硫酸銅

180-220克/升

200克/升

純硫酸

55-80克/升

65克/升

氯離子

50-120毫克/升

70毫克/升

210Mu開(kāi)缸劑

8-10毫升/升

8毫升/升

210A填平劑

0.5-0.7毫升/升

0.6毫升/升

210B光亮劑

0.4-0.6毫升/升

0.6毫升/升

溫度

20-28℃

24℃

陰極電流密度

1-8安培/平方分米

3-5安培/平方分米

陽(yáng)極電流密度

0.5-2.5安培/平方分米

0.5-2.5安培/平方分米

陽(yáng)極

磷銅角(0.03-0.06%磷)

磷銅角(0.03-0.06%磷)

電壓

1.5-6V

3V

攪拌方法

空氣或機械攪拌

空氣攪拌

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三、鍍液配制方法:

1、在預備槽中注入二分之一的純水,所用的純水的氯離子含量應低于70毫克/升。加入所需的硫酸銅,攪拌使其完全溶解。

2、加入2.0克/升的活性碳,攪拌一小時(shí)以上。然后用過(guò)濾泵將鍍液濾入清潔的電鍍槽中,加水至接近水位。

3、慢慢加入所需的純硫酸,同時(shí)進(jìn)行強烈的攪拌,以保持鍍液的溫度不超過(guò)60℃。

4、將鍍液冷卻至25℃后;再根據鍍液中氯離子的含量,添加鹽酸或氯化鈉,以使氯離子的含量達到標準值。

5、最后加入以上的各種添加劑,以0.3A/dm2的電流電解大約2小時(shí),便可以開(kāi)始電鍍。


四、設備要求:

1、鍍 ???槽:內襯聚氯乙烯或其它各種塑料的鋼槽或者塑料槽。

2、冷卻設備:鍍液溫度過(guò)高,不但會(huì )使光亮劑的消耗量增大,還會(huì )導致低電位區的光亮度降低;所以配備合適的冷卻設備是十分必要的。

3、循環(huán)過(guò)濾:鍍液中的浮游物如灰塵、油脂等均會(huì )導致鍍層粗糙、產(chǎn)生針孔或降低光亮度;鍍液最好采用連續循環(huán)過(guò)濾,過(guò)濾泵最少能在一小時(shí)內將鍍液過(guò)濾四次。

4、空氣攪拌:應采用足夠強烈的空氣攪拌,空氣攪拌不足易出現針孔、麻點(diǎn)。

5、磷銅陽(yáng)極:含磷量應在0.03-0.06%;磷含量太低,容易產(chǎn)生銅粉引起毛刺;磷含量太高, ?會(huì )造成陽(yáng)極表面磷膜太厚,導致槽電壓升高而陰極電流效率下降,鍍層容易出現麻點(diǎn)、針孔等故障。

6、陽(yáng)極袋:應選擇耐酸、堿的雙層滌綸布袋,以防止陽(yáng)極泥進(jìn)入鍍液中。


五、添加劑的作用及補充:

1、210Mu:支持A B劑作出高填平光亮鍍層并消除針孔。210Mu不足時(shí),鍍層易出現針孔,有時(shí)也會(huì )使高區燒焦,鍍層的整平性降低;210Mu過(guò)量時(shí),低電位區會(huì )產(chǎn)生霧狀鍍層。

2、210A:低區光亮劑,整平劑。210A含量過(guò)低時(shí),整個(gè)電流密度區的鍍層整平度下降,低區不亮;210A過(guò)量時(shí),低電位區的填平度會(huì )突然變差,形成明顯的分界,易產(chǎn)生掛印,此時(shí)加入210B和 210C劑可解決。

3、210B:高區光亮劑,細化晶粒。210B含量不足時(shí),鍍層極易燒焦;而210B過(guò)量時(shí),會(huì )引起低電位區嚴重起霧,可加入210A劑解決。

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六、添加劑的消耗量:

1、210Mu:60-90毫升/1000安培小時(shí)。

2、210A:50-70毫升/1000安培小時(shí)。

3、210B:40-60毫升/1000安培小時(shí)。

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